據國外媒體報道，IBM在近期內將會給大家展示他們的新成果，即IBM已經突破應用于光學平板印刷的制造芯片方面的技術，已經達到了32nm。大多的制作技術還不能夠在32nm的微處理器上進行蝕刻。但是IBM克服了這一困難，可以以29.9nm的寬度進行蝕刻，完成了193nm縱深紫外線(DUV)光學平版印刷術的開發。IBM的博士RobertDAllen表示，IBM阿爾馬登的研究中心的平版印刷術相關的管理人，我們的目標是不斷的推進光學平版印刷技術，讓其發展到一個頂峰，直到不能再繼續，然后往其它的方向發展。這次研究的成功證明了，莫爾定律在芯片制造方面至少還有7年的發展空間。

   現在大多的處理器的采用的還是90nm技術，英特爾剛開始步入65nm臺階。

   IBM計劃在SPIE微蝕刻技術國際研討會上展示它的這一成果。